特殊化学品

はじめに｜半導体が動くために「ガス」が要る # AI半導体の話題になると、NVIDIAやTSMCに注目が集まります。しかし、その最先端チップを作るためには超高純度の産業用ガスと特殊化学品が不可欠であることをご存知でしょうか。 エッチング、成膜、洗浄、リソグラフィ——半導体製造の主要工程すべてにガスや化学品が使われています。AIブームでチップの需要が爆発すれば、これらの素材企業の売上も連動して伸びるのが「ツルハシ投資」の本質です。 この記事では、産業用ガス・特殊化学品の業界構造と主要銘柄を整理し、長期投資先としての魅力を掘り下げていきます。 半導体製造に使われるガス・化学品の種類 # 産業用ガス（バルクガス・特殊ガス） # 用途 主なガス エッチング SF₆、CF₄、Cl₂、HBr 成膜（CVD/ALD） SiH₄、WF₆、NH₃、TEOS リソグラフィ フッ素系ガス（ArFレーザー用） 雰囲気制御 N₂、Ar、H₂、He 洗浄 HF、O₃ 特殊化学品（ウェットケミカル） # フォトレジスト：回路パターンを転写する感光材料 CMP スラリー：ウエハー表面を平坦化する研磨液 高純度薬液：硫酸、過酸化水素、アンモニア等の電子グレード品 前駆体（プリカーサー）：ALD/CVD成膜用の有機金属化合物 先端プロセスになるほど使用ガスの種類・量が増えるため、微細化＝ガス・化学品の需要増という構造があります。